Под брендом SUPERIA корпорация FUJIFILM объединила свои новейшие разработки в области формных технологий.

Концепция SUPERIA – это симбиоз различных технологий Fujifilm во многих областях – формном процессе, программном обеспечении для допечати, решениях в области печатной химии, сервисной поддержке – направленный на решение задачи повышения эффективности производства и снижения в конечном итоге себестоимости оттиска.

Важную роль для термальных пластин этой линейки имеет технология ZAC.

 

Линейка продуктов Fujifilm Superia

LH-PLE
Позитивные высокочувствительные (110 мДж/см. кв.) высокотиражные (до 300 тыс. без обжига) термальные пластины. Обладают повышенной механической устойчивостью. Обеспечивают высокое разрешение и поддерживают размер точки при стохастическом растрировании до 20 мкм. Стандартно работают по технологии ZAC, доступна химия для работы в проявках, не поддерживающих ZAC-технологию.

LH-PK
Позитивные высокочувствительные среднетиражные термальные пластины, отлично подходящие для большинства работ типографии. Обладают повышенной химической устойчивостью. Работают с УФ-красками как с обжигом, так и без него. Работают по технологии ZAC, а также в классических проявках, не поддерживающих ZAC-технологию.

LH-PXE
Позитивные высокочувствительные (110 мДж/см. кв.) сверхвысокотиражные (до 500 тыс. без обжига) термальные пластины. Обеспечивают высокое разрешение и поддерживают размер точки при стохастическом растрировании до 20 мкм. Обрабатываются по технологии ZAC.

LH-NI3
Негативные высокочувствительные (от 100 мДж/см. кв.) высокотиражные (до 300 тыс. оттисков без обжига) термальные пластины. Обладают исключительной химической устойчивостью. В ряде случаев использование негативных пластин позволяет избежать применения устройства вывода большего формата. Плюсом решения от Fujifilm является то, что LH-NI3 совместима по химии с LH-PJE и PLE.

PRO-V
Фотополимерная негативная высокочувствительная (45 мкДж/см. кв) высокотиражная (до 200 тыс. оттисков без обжига) малохимическая пластина для коммерческой и смешанной печати. Обладает исключительной разрешающей способностью для пластин этой технологии (1-99% при 200 lpi, поддерживается 20 мкм стохастический растр). Fujifilm является пионером малохимической технологии. В его исполнении она выглядит наиболее законченной: весь срок жизни проявителя в качестве подкрепителя используется дистиллированная вода (компенсирует естественную убыль раствора). Обслуживание процессора компактно по времени и дружественно к обслуживающему персоналу.

PRO-VN
Фотополимерная негативная высокочувствительная (30 мкДж/см. кв) высокотиражная (до 200 тыс. оттисков без обжига) малохимическая пластина, ориентированная на рынок газетной печати. По сравнению с коммерческой версией (см. Pro-V) пластина обладает повышенной чувствительностью для обеспечения высокой производительности. Она поддерживает линиатуру до 130 lpi с принятым в газетном производстве тоновым диапазоном 2-98%. Весь срок службы проявителя происходит пополнение убыли раствора водой, замена проявителя занимает мало времени, процессор значительно чище, чем при применении альтернативных решений.

ZE
Негативные беспроцессные пластины для термальных СТР. Отличительная особенность пластин – высокая чувствительность и возможность визуального контроля благодаря большей контрастности изображения по сравнению с беспроцессными пластинами предыдущих поколений и материалами других производителей, а также более стабильное поведение в печати. Формы ZE можно применять для печати УФ – красками. Пластины имеют европейский сертификат безопасности на применение в производстве пищевой упаковки с опосредованным контактом с продуктом.

Вернуться назад